在高端半导体制造领域，设备的性能边界正由核心部件的极限能力所定义。LS电气凭借对半导体工艺的深刻洞察，创新性地将高精度运动控制与超精密流体管理两大核心技术深层次地融合，构建了业界领先的“动力-流体”一体化控制解决方案。
本次参选的创新实践，核心在于LS电气Spinner高速中空轴电机与UFM系列超声波流量计在半导体关键设备中的系统级应用与协同。这不仅解决了单一部件的性能瓶颈，更通过技术耦合，实现了从晶圆旋转涂布到化学品精准供给的全流程工艺优化，明显提升了设备的综合效能（OEE）与制程良率。
作为半导体涂胶、显影、清洗等设备的核心动力源，Spinner电机的技术创新直接决定了工艺的均匀性与一致性。
极限动态性能：采用全封闭中空轴与内置水冷系统模块设计，在保证真空吸附气路畅通的同时，有效控制高速运转下的温升。电机支持最高8000rpm的额定转速与高达 50000 rpm/s 的瞬间加速度，确保晶圆能在极短时间内达到设定转速并均匀涂胶，满足先进制程对胶厚一致性的苛刻要求。
运行精度与稳定性：通过磁性流体密封技术提升防护等级，并结合高刚性伺服设计与精密加工（公差10μm），实现了 ≤5μm 的极低轴端跳动。在额定转速下，转速波动可控制在 ±0.1% 以内，同时保持低振动（），为非常快速地旋转下的工艺稳定性奠定了坚实基础。
深度定制化能力：提供从轴的外形及尺寸、编码器类型（增量/绝对值）到防腐蚀涂层（如铁氟龙）的全方位定制，精准适配不同半导体设备制造商对于集成尺寸、通讯协议及耐腐蚀环境的特殊需求。
在湿法制程中，化学药液流量的精度与稳定性是影响刻蚀速率、清理洗涤效果的关键。LS电气超声波流量计家族攻克了行业长期痛点。
从监测到智控的全矩阵覆盖，构建了全场景产品矩阵，针对不同工艺提供解决方案：
-UFM-200/300系列：一体化液体流量控制器（LFC），响应时间2秒，实现快速精准的流量闭环控制。
-UFM-400系列：专为CMP研磨液设计，采用耐磨夹管阀，解决含固体颗粒浆液的测量与控制难题。
-UFM-120系列：利用流体漩涡现象测量，适合大流量浆液或液体的流量监测，最大90L/min的大流量测量，支持脉冲输出（累积流量）和模拟输出（瞬时流量）。
一体化集成设计：将传感器、控制器与执行阀集成于单一设备，取代了传统“流量计+外部控制器+阀门”的复杂组装，降低了接液风险、维护成本与设备占地面积。
该创新实践的价值，在半导体设备的具体应用场景中得到了充分验证，体现了“1+12”的系统协同效应。
实践场景：在光刻胶涂布环节，Spinner电机驱动晶圆非常快速地旋转，而UFM系列流量计精准控制光刻胶的供给流量与时机。
协同创新：电机的瞬时高速启停保证了胶膜均匀性，而流量计对高粘度光刻胶的 抗气泡干扰能力和快速响应控制，确保了每一滴胶的用量都精确无误。二者协同，从动力和供给两端共同保障了关键尺寸的精度，提升了套刻对准良率。
协同创新：具备 防腐蚀涂层定制能力的Spinner电机，可在恶劣化学环境中稳定运行。同时，UFM流量计家族的各类控制器，可以依据工艺配方，对硫酸、氨水、氢氟酸等不同化学品进行差异化的精密流量管理与快速切换。 两者的高可靠性共同保障了工艺重复性与设备综合效率(OEE)。
协同创新：Spinner电机或其同源技术的大扭矩直驱电机，为抛光平台提供平稳、精准的旋转运动。 专为浆液设计的 UFM-400系列流量计，则凭借其耐磨的夹管阀结构，实现对含有 氧化铝、二氧化硅颗粒 的研磨液的长寿命、稳定供应。 这种协同确保了晶圆全局平坦化效果的一致性与可预测性。
半导体制造的每一次精度飞跃，不能离开核心部件与系统方案的协同进化。LS电气将高精度运动控制与超精密流体管理深层次地融合的创新实践，不仅是对单一技术瓶颈的突破，更是面向半导体设备 “更智能、更集成、更可靠” 发展的新趋势所提供的一种系统性答案。
我们深信，真正的应用创新价值，最终体现在为产业伙伴创造的确定性之上，无论是助力设备制造商简化集成、加速研发，还是赋能芯片制造厂提升产线效能、保障工艺窗口。LS电气愿以本次申报的“高精协同与流体精准控制”方案为基点，与业界同仁一道，持续深耕核心技术，共同应对先进制程带来的挑战，为中国乃至全球半导体装备的自主化与智能化升级，贡献坚实而创新的力量。
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